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GB/T20176-2006表面化學(xué)分析二次離子質(zhì)譜用均勻摻雜物質(zhì)測(cè)定硅中硼的原子濃度

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標(biāo)準(zhǔn)簡介:本標(biāo)準(zhǔn)詳細(xì)說明了用標(biāo)定的均勻摻雜物質(zhì)確定單晶硅中硼的原子濃度的二次離子質(zhì)譜方法。

標(biāo)準(zhǔn)號(hào):GB/T 20176-2006

標(biāo)準(zhǔn)名稱:表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜 用均勻摻雜物質(zhì)測(cè)定硅中硼的原子濃度

英文名稱:Surface chemical analysis-Secondary-ion mass spectrometry-Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials

標(biāo)準(zhǔn)類型:國家標(biāo)準(zhǔn)

標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì):推薦性

標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài):現(xiàn)行

發(fā)布日期:2006-03-27

實(shí)施日期:2006-11-01

中國標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào)(CCS):儀器、儀表>>光學(xué)儀器>>N33電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器

國際標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào)(ICS):化工技術(shù)>>分析化學(xué)>>71.040.40化學(xué)分析

起草單位:清華大學(xué)電子工程系

歸口單位:全國微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)

發(fā)布單位:國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員.

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