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檢測執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)信息一覽：
標(biāo)準(zhǔn)簡介：本準(zhǔn)則規(guī)定了在表示掩模曝光設(shè)備的精密度和準(zhǔn)確度時應(yīng)遵循的一般要求。掩模曝光設(shè)備的圖形曝光精密度和準(zhǔn)確度是通過測量制成的掩模來評估的，掩膜制造過程中的工藝條件對它有很大影響。所以，曝光條件應(yīng)經(jīng)廠家和用戶雙方同意。
標(biāo)準(zhǔn)號：GB/T 16879-1997
標(biāo)準(zhǔn)名稱：掩模曝光系統(tǒng)精密度和準(zhǔn)確度的表示準(zhǔn)則
英文名稱：Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment
標(biāo)準(zhǔn)類型：國家標(biāo)準(zhǔn)
標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì)：推薦性
標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)：現(xiàn)行
發(fā)布日期：1997-06-20
實(shí)施日期：1998-03-01
中國標(biāo)準(zhǔn)分類號（CCS）：電子元器件與信息技術(shù)>>電子工業(yè)生產(chǎn)設(shè)備>>L97加工專用設(shè)備
國際標(biāo)準(zhǔn)分類號（ICS）：電子學(xué)>>31.020電子元件綜合
起草單位：中國科學(xué)院微電子中心
歸口單位：全國半導(dǎo)體材料和設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會
發(fā)布單位：國家技術(shù)監(jiān)督局
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