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標準簡介：本標準規(guī)定了用Ｘ射線技術測量硅片參考面結晶學取向的方法。本標準適用于硅片參考面結晶學取向與參考面規(guī)定取向之間角度偏差的測量。硅片直徑為50～125mm，參考面長度為10～50mm。本標準不適用于硅片規(guī)定取向在與參考面和硅片表面相垂直的平面內的投影與硅片表面法線之間夾角不小于3°的硅片的測量。
標準號：GB/T 13388-1992
標準名稱：硅片參考面結晶學取向X射線測量方法
英文名稱：Method for measuring crystallographic orientation of flats on single crystal silicon slices and wafers by X-ray techniques
標準類型：國家標準
標準性質：推薦性
標準狀態(tài)：作廢
發(fā)布日期：1992-02-19
實施日期：1992-10-01
中國標準分類號（CCS）：冶金>>金屬理化性能試驗方法>>H21金屬物理性能試驗方法
國際標準分類號（ICS）：29.040.30
替代以下標準：被GB/T 13388-2009代替
起草單位：北京有色金屬研究總院
歸口單位：全國半導體材料和設備標準化技術委員會
發(fā)布單位：國家技術監(jiān)督局
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