標準簡介：本標準規(guī)定了電感耦合等離子體質(zhì)譜法（ICP-MS）測定硅片表面金屬元素含量的方法。本標準適用于硅單晶拋光片和硅外延片表面痕量金屬鈉、鎂、鋁、鉀、鈣、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鋅元素含量的測定，測定范圍為108 cm-2～1013cm-2。本標準同時也適用于硅退火片、硅擴散片等無圖形硅片表面痕量金屬元素含量的測定。

標準號：GB/T 39145-2020

標準名稱：硅片表面金屬元素含量的測定 電感耦合等離子體質(zhì)譜法

英文名稱：Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry

標準類型：國家標準

標準性質(zhì)：推薦性

標準狀態(tài)：現(xiàn)行

發(fā)布日期：2020-10-11

實施日期：2021-09-01

中國標準分類號（CCS）：冶金>>金屬化學分析方法>>H17半金屬及半導體材料分析方法

國際標準分類號（ICS）：冶金>>77.040金屬材料試驗

起草單位：南京國盛電子有限公司、有研半導體材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、上海合晶硅材料有限公司、有色金屬技術(shù)經(jīng)濟研究院、無錫華瑛微電子技術(shù)有限公司、龍騰半導體有限公司、廈門科鑫電子有限公司

歸口單位：全國半導體設(shè)備和材料標準化技術(shù)委員會(SAC/TC 203)、全

發(fā)布單位：國家市場監(jiān)督管理總局.