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標準編號:GB/T 14144-2009硅晶體中間隙氧含量徑向變化測量方法
標準狀態(tài):現(xiàn)行
標準簡介:本標準適用于室溫電阻率大于0.1Ω·cm 的n型硅單晶和室溫電阻率大于0.5Ω·cm 的p型硅單晶中間隙氧含量的測量。
英文名稱: Testing method for determination of radial interstitial oxygen variation in silicon
替代情況: 替代GB/T 14144-1993
中標分類: 冶金>>半金屬與半導體材料>>H80半金屬與半導體材料綜合
ICS分類: 電氣工程>>29.045半導體材料
采標情況: MOD SEMI MF 1188-1105
發(fā)布部門: 中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局 中國國家標準化管理委員會
發(fā)布日期: 2009-10-30
實施日期: 2010-06-01
*發(fā)日期: 1993-02-06
提出單位: 全國半導體設(shè)備和材料標準化技術(shù)委員會
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