YS/T 935-2013《電子薄膜用高純金屬濺射靶材純度等級及雜質(zhì)含量分析和報告標(biāo)準(zhǔn)指南》基本信息

標(biāo)準(zhǔn)號：

YS/T 935-2013

中文名稱：

《電子薄膜用高純金屬濺射靶材純度等級及雜質(zhì)含量分析和報告標(biāo)準(zhǔn)指南》

發(fā)布日期：

2013-10-17

實(shí)施日期：

2014-03-01

發(fā)布部門：

中華人民共和國工業(yè)和信息化部

歸口單位：

全國有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(SAC/TC 243)

起草單位：

有研億金新材料股份有限公司

起草人：

張濤、何金江、丁照崇、萬小勇、徐建衛(wèi)、廖贊、尚再艷、王欣平、熊曉東、呂保國

中國標(biāo)準(zhǔn)分類號：

H68貴金屬及其合金

國際標(biāo)準(zhǔn)分類號：

77.150.99其他有色金屬產(chǎn)品

YS/T 935-2013《電子薄膜用高純金屬濺射靶材純度等級及雜質(zhì)含量分析和報告標(biāo)準(zhǔn)指南》介紹

YS/T 935-2013《電子薄膜用高純金屬濺射靶材純度等級及雜質(zhì)含量分析和報告標(biāo)準(zhǔn)指南》是中華人民共和國工業(yè)和信息化部發(fā)布的一項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)，該標(biāo)準(zhǔn)自2013年10月17日發(fā)布，并于2014年3月1日起正式實(shí)施。

一、標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定內(nèi)容

1、目的與適用范圍

YS/T 935-2013標(biāo)準(zhǔn)的主要目的是為了確保電子薄膜用高純金屬濺射靶材的質(zhì)量，提高其在電子工業(yè)中的應(yīng)用性能。該標(biāo)準(zhǔn)適用于電子薄膜用高純金屬濺射靶材的純度等級及雜質(zhì)含量的分析和報告。

2、術(shù)語與定義

標(biāo)準(zhǔn)中對“高純金屬”、“濺射靶材”、“純度等級”和“雜質(zhì)含量”等術(shù)語進(jìn)行了明確的定義和解釋，為標(biāo)準(zhǔn)的理解和執(zhí)行提供了基礎(chǔ)。

3、純度等級

YS/T 935-2013標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了高純金屬濺射靶材的純度等級，包括99.9%、99.99%、99.999%和99.9999%四個等級。不同等級的靶材適用于不同的電子薄膜制備工藝和應(yīng)用領(lǐng)域。

4、雜質(zhì)含量

標(biāo)準(zhǔn)對高純金屬濺射靶材中的雜質(zhì)含量進(jìn)行了詳細(xì)的規(guī)定，包括主要雜質(zhì)元素和非主要雜質(zhì)元素的含量要求。雜質(zhì)含量的控制對于保證電子薄膜的性能至關(guān)重要。

5、分析方法

YS/T 935-2013標(biāo)準(zhǔn)推薦了多種分析方法，包括原子吸收光譜法、感應(yīng)耦合等離子體質(zhì)譜法和X射線熒光光譜法等，用于測定高純金屬濺射靶材中的雜質(zhì)含量。

6、報告格式

標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了高純金屬濺射靶材純度等級及雜質(zhì)含量分析報告的格式，包括報告的標(biāo)題、樣品信息、分析結(jié)果、分析方法和報告日期等內(nèi)容。

二、標(biāo)準(zhǔn)的意義

1、提高產(chǎn)品質(zhì)量

YS/T 935-2013標(biāo)準(zhǔn)對電子薄膜用高純金屬濺射靶材的純度和雜質(zhì)含量進(jìn)行了嚴(yán)格的規(guī)定，有助于提高靶材的質(zhì)量，從而提高電子薄膜的性能。

2、規(guī)范市場行為

該標(biāo)準(zhǔn)為電子薄膜用高純金屬濺射靶材的生產(chǎn)和銷售提供了統(tǒng)一的技術(shù)要求，有助于規(guī)范市場行為，保護(hù)消費(fèi)者權(quán)益。

3、促進(jìn)行業(yè)發(fā)展

通過制定和實(shí)施這一標(biāo)準(zhǔn)，可以推動電子薄膜用高純金屬濺射靶材行業(yè)的技術(shù)進(jìn)步和產(chǎn)業(yè)升級，促進(jìn)整個電子工業(yè)的發(fā)展。

檢測流程步驟

溫馨提示：以上內(nèi)容僅供參考使用，更多檢測需求請咨詢客服。