YS/T 14-2015《異質外延層和硅多晶層厚度的測量方法》基本信息

標準號：

YS/T 14-2015

中文名稱：

《異質外延層和硅多晶層厚度的測量方法》

發(fā)布日期：

2015-04-30

實施日期：

2015-10-01

發(fā)布部門：

工業(yè)和信息化部

YS/T 14-2015《異質外延層和硅多晶層厚度的測量方法》介紹

工業(yè)和信息化部于2015年4月30日發(fā)布了《異質外延層和硅多晶層厚度的測量方法》（YS/T 14-2015）標準，該標準自2015年10月1日起正式實施，為硅基材料的生產(chǎn)和檢測提供了重要的參考和指導。

一、測量原理

YS/T 14-2015標準采用光譜反射率法進行異質外延層和硅多晶層厚度的測量。通過測量樣品表面的光譜反射率，結合材料的光學性質和厚度與反射率之間的關系，可以計算出樣品的厚度。

二、測量儀器

YS/T 14-2015標準對測量儀器提出了具體要求。測量儀器應包括光源、單色儀、探測器、樣品臺等組成部分，能夠對樣品的光譜反射率進行精確測量。同時，測量儀器的穩(wěn)定性、重復性和準確性也應滿足標準要求。

三、測量步驟

YS/T 14-2015標準對測量步驟進行了詳細的規(guī)定。需要對樣品表面進行清潔和平整處理，以保證測量結果的準確性。然后，將樣品放置在樣品臺上，調整光源和探測器的位置，使其與樣品表面垂直。接下來，通過單色儀對樣品的光譜反射率進行測量，記錄不同波長下的反射率值。根據(jù)測量結果和材料的光學性質，利用數(shù)學模型計算出樣品的厚度。

四、數(shù)據(jù)處理

YS/T 14-2015標準對數(shù)據(jù)處理提出了具體要求。需要對測量數(shù)據(jù)進行預處理，包括濾波、去噪等操作，以提高數(shù)據(jù)的準確性。然后，根據(jù)材料的光學性質和厚度與反射率之間的關系，利用數(shù)學模型對數(shù)據(jù)進行擬合，計算出樣品的厚度。對計算結果進行分析和評估，以確保測量結果的可靠性。

檢測流程步驟

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