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GB/T12085.8-2010光學(xué)和光學(xué)儀器 環(huán)境試驗(yàn)方法 第8部分:高壓、低壓、浸沒(méi)

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標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)介:本部分規(guī)定了高壓、低壓、浸沒(méi)試驗(yàn)的試驗(yàn)條件、條件試驗(yàn)、試驗(yàn)程序及環(huán)境試驗(yàn)標(biāo)記。本部分適用于光學(xué)儀器、裝有光學(xué)零部件的儀器和光學(xué)零部件。本試驗(yàn)?zāi)康臑檠芯吭嚇拥墓鈱W(xué)、熱學(xué)、力學(xué)、化學(xué)和電學(xué)等特性受到環(huán)境氣體高壓、低壓或水浸沒(méi)影響的變化程度。

標(biāo)準(zhǔn)號(hào):GB/T 12085.8-2010

標(biāo)準(zhǔn)名稱:光學(xué)和光學(xué)儀器 環(huán)境試驗(yàn)方法 第8部分:高壓、低壓、浸沒(méi)

英文名稱:Optics and optical instruments—Environmental test methods—Part 8:High pressure low pressure immersion

標(biāo)準(zhǔn)類型:國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì):推薦性

標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài):現(xiàn)行

發(fā)布日期:2011-01-14

實(shí)施日期:2011-05-01

中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào)(CCS):儀器、儀表>>光學(xué)儀器>>N30光學(xué)儀器綜合

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào)(ICS):成像技術(shù)>>37.020光學(xué)設(shè)備

替代以下標(biāo)準(zhǔn):替代GB/T 12085.8-1989

起草單位:寧波永新光學(xué)股份有限公司、上海理工大學(xué)

歸口單位:全國(guó)光學(xué)和光子學(xué)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC 103)

發(fā)布單位:國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫.

檢測(cè)流程步驟

檢測(cè)流程步驟

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